Sigma 系列產品

用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡

用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡

• 介紹  ；

• 將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。

• 
  

• Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有一流的背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果

• 特點

• 
  

                                     用于清晰成像的靈活探測

• 

• 
  

  
  

                                     自動化加速工作流程

  
  

• 

•                                     高級分析型顯微鏡

• 

• 利用先進探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
  

• 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
  

• 利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。

• 利用先進探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
  

• 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
  

• 利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。

• 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 一流的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。

• 在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。

• 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。

• 
  

• 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環境中，從快速成像和節省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。

• 首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
  

• 接下來對樣品感興趣的區域進行優化并自動采集圖像。最后使用工作流程的最后一步，將結果可視化。
  

• 利用先進探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
  

• 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
  

• 利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。